12英寸晶圓激光開槽設備
該設備使用激光在晶圓表面刻線開槽,以人性化的操作設計提升用戶體驗、智能化的軟件系統提高生產效率。
設備優勢
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01配備高精密直線電機,高速度X-Y運動平台
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02採用特殊定製的激光器加工,切割槽型品質高,熱影響小
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03軟件操作簡單,設備維護便捷
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04單焦點實現寬光、細光自由組合的切割模式,加工精度高
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05採用背光切割載台,邊緣識別效果更好
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設備展示

基本信息
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1. 適用產品:8~12inch Low-K/CMOS等半導體晶圓
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2. 激光器:紫外納秒或者短脈衝定製激光器
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3. 開槽深度:≥10μm
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4. 切割速度:0-1000mm/s
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5. 加工方式:全自動
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6. 適應切割寬度: 30~90μm